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一、選址的要求
MRI手術室的選址需要考慮建築物周圍環境對磁共（gòng）振設備的影響：
1.周圍道路上移動車輛對MRI設備的影響。
2.附近電梯、建築設備的影響（由廠商進（jìn）行評估），宜距離設備機房10m以外。
3.MRI手（shǒu）術室的麵積（jī）應該要大於普通MRI機房的麵積，一般要求在（zài）40㎡以上，跨（kuà）距（jù）宜選擇8500mm以上。
4.綜合考慮MRI設（shè）備和潔淨手術室要（yào）求，層高宜大於4.5m。
二、MRI手術室的（de）通常布（bù）局
目前MRI手術室（shì）主要分為兩室（shì）布局（jú）和三室布局：
兩室（shì）布局：磁（cí）共振手術室——診斷（duàn）室（附設設備間）
三室布局：磁共振手術室——診斷室（shì）（附設設備間）——磁共振手術（shù）室
醫院的平麵布局宜根據手術的具體需要、未來的發（fā）展空間、建（jiàn）築（zhù）物的整體（tǐ）布（bù）局及投資費用等方麵綜合考慮，選擇適合醫院本身的平麵布（bù）局。
三、術中核磁（cí）工作原理
1.術中核磁的手術室，是由兩（liǎng）個各自獨立的房間組成的統一體，一間是手術室（OR）,另一間（jiān）則是磁體設（shè）備房（fáng）間（DR）,另一間（jiān）是（shì）控製室。
2.OR與DR之間有一道移動屏蔽門相（xiàng）隔，平時關閉，手術時可開啟也可關閉。房間吊頂（dǐng）有軌道相（xiàng）通，磁體設備（bèi）吊（diào）裝在軌道上（shàng），可以來回滑動。
術中（zhōng）核磁手術室（shì）平麵（miàn）示意圖
術中核磁手術室剖麵示意圖
3.工作（zuò）過程為：
①病人（rén）先在DR進行磁（cí）共振檢測，確認頭顱病灶的部位。
②病人推入OR準備（bèi）手術，此時移動屏蔽門是先開後關閉狀態。
③病人在OR進行手術，此時移動屏蔽門是關閉狀態，OR與DR為獨立的兩（liǎng）間潔淨（jìng）室。
④術後移動（dòng）屏蔽門打開，由DR的磁體設備移（yí）動至OR進行磁共振掃描，以便觀察手術是否做的成功（gōng）。此時（shí）OR與DR聯通，成為一個整體潔淨室。
⑤手術結（jié）束前（qián）磁體退回DR間。
⑥手術結束，病人離開手術室（shì）。
四、術中（zhōng）核（hé）磁房（fáng）間參數
MRI手術室對溫度濕度（dù）和房間的潔淨度有嚴格的要求，達不到這些參數的要求對手術有直接的影響。
注：手術室的最小新風量（liàng）應根據不同的房（fáng）間條件計算而得
溫濕度要求
各房間潔淨指標
五、術中核（hé）磁房間的屏蔽要求
MRI手術室的六麵屏蔽殼體所采用的屏蔽板（包括（kuò）壁板、頂板（bǎn）、底板）必須由具（jù）有良（liáng）好導電（diàn）、導磁性能的金屬（shǔ）網或金屬複合材料構成，包括MRI手術室的（de）自動移動門和診（zhěn）斷室窗戶，同樣需（xū）按（àn）MRI特殊（shū）要求進行電磁屏蔽處理。技術要點：
1.MRI手術室采（cǎi）用射頻屏蔽（bì）門及屏蔽窗。
2.所有進入手術室（shì）的淨化管道、電氣管線、控（kòng）製線、信號線、各種醫療（liáo）氣體管道都（dōu）必須采用非磁性（xìng）材料處理，且電線電纜需要（yào）經過電源濾波器後（hòu）方能接入手術室區域。
3.空（kōng）調淨化（huà）送風口、回（huí）風口須裝通風波導（dǎo）。
4.MRI手術室屏蔽殼體應采用單點接地，其接地電阻≦2Ω，須小於避雷接地的接地電阻。
5.屏蔽殼體未與地（dì）連接時，其與地線間的（de）絕緣電阻應（yīng）不小（xiǎo）於10kΩ。
六、術中核磁房間（jiān）的結構要求
應區分磁共振設備是（shì）固定式還是移動式，懸掛式或落地式，考慮樓板梁對荷載的要求，滿足結構對運行的要求。設備搬（bān）入要考慮走廊（láng）承重及門寬度。技術要點：
1.當選擇懸（xuán）掛磁體時，還需對（duì）滑動軌（guǐ）道固定鋼梁進行設計，鋼梁同時需滿足強度、撓度及磁體設備的功能要（yào）求。
2.選擇固定磁體時，應（yīng）進行降板降梁設計，滿足磁體下（xià）地麵鋼筋含量不超過設備廠家規定的要求。
七（qī）、術中核磁（cí）房間的裝修
1.裝（zhuāng）修材料中的（de）龍骨、裝飾麵板均應采（cǎi）用非磁性（xìng）材料。
2.室內（nèi）照明燈具需綜合考慮一般手術、內窺鏡手術及磁體掃描對室內照明（míng）的不（bú）同需求，可分別設置普通交流燈具、可調光交流白熾燈、直流燈、手（shǒu）術燈多種照明（míng）形式來滿足不同使用情況（kuàng）的要求。
3.並且應對磁體移動和使用（yòng）、交流燈與直流燈（dēng）三者進行聯動設計（jì），當磁體移動（dòng）到手術室內時（shí），交流燈具全部關閉，所有直流燈具同（tóng）步打（dǎ）開，滿足了手術（shù）室內照明和磁體掃描的環境要求。故（gù）宜合理考慮電源櫃設備間的位置。
4.照明、插座、及所有磁屏蔽殼體內用電都必（bì）須（xū）經由殼體與外界交界處設置的（de）電源濾波器過渡（dù），避免內部（bù）電源對外界，及外界電源對殼體內電源的（de）幹擾。
5.監控及網絡布線盡量使（shǐ）用（yòng）光纖傳（chuán）播，避免電磁幹擾，光纖穿越屏蔽殼體（tǐ）時需設置波導管避免漏磁。
6.按照磁體（tǐ）設備要求，宜采用（yòng）從配電室直接鋪設（shè）電纜供應，保證獨立供電，且應選擇優（yōu）質的多股銅芯電纜。
7.其他（tā）設備（包括空調機組、照明等（děng））可由大樓配電箱供電，主機和冷水機組應采用兩路供電。
8. 此外，根據選擇廠家的不同，應考慮連接磁體失超管的路徑，失超管出口宜高出地麵3.8m以上，部分廠家可能還需排氣管道及失超（chāo）閥。
八、術中核磁房間的淨化設計
1.淨化級別及係統
就一般核（hé）磁檢查室（shì）(DR)而言，是不需要淨化空調的，但是術中核磁將檢查與手術聯係到一起，需要相互“互動"。因此，DR也需（xū）要（yào）做淨化。手術室(OR)主要以腦外科手術，手術室淨化級別（bié）定為I級，而DR與OR之間在手術過程中移動屏蔽門將打開，彼此連成一體，為了保證OR內的潔（jié）淨（jìng）度及氣流組織的（de）穩（wěn）定，將（jiāng）DR定為（wéi）II級手術（shù）室來設計淨化係統，否（fǒu）則會造成（chéng）OR與DR之間壓差及潔淨度相差過大，開門時造成兩（liǎng）室氣（qì）流的不穩定，對I級層流的擾動太大從而影響手（shǒu）術（shù）的效果。
對於一個磁體檢查室來說，II級手術室的標準又（yòu）太高，同時也不利於節能。因此，根據OR與DR的工作特性，采取了一個折中的辦法。在OR與DR之間屏蔽門關閉狀態時，其實兩室是各自獨（dú）立的，隻有在門打開（kāi）時才相互（hù）連通。因此，可考慮為DR設計為一個變風量係統，在屏蔽門關閉時，設計為一般Ⅲ級潔淨室的標準，保證房間的潔淨（jìng）度及（jí）相對於鄰室輔助用房（fáng）的壓差。在屏蔽將要打開之前，再將DR的潔淨級別提高至II級手術室（shì）標準，使（shǐ）DR與OR在屏蔽門（mén）打開（kāi）連通之後，OR室內的潔淨環境不（bú）會受到太（tài）大的影響，保證手術的正常進行。
其餘潔淨輔助用房則（zé）均按照《醫院潔淨（jìng）手術部建築技術規範》(GB 50333)的要求進（jìn）行設計。
2.送回風口及氣流組織
按照《醫院潔淨手術（shù）建築（zhù）技術規範》I級潔淨手術室的送風麵積不小（xiǎo）於2.4m×2.6m的區域。但是OR吊頂裝了兩根（gēn）軌道（dào）供磁體移動，因此隻能將2.4m×2.6m的送風區域分成三塊，每塊（kuài）大小0.8m×2.6m，同時由於手（shǒu）術室麵積較大，並且是不規則（zé）形狀，因此在（zài）手術室四周（zhōu）都設有下回風口，保證氣流組織能分布均勻，以保證室內潔淨度符合設計標準（zhǔn）。為了盡可能的減小（xiǎo）開門後DR對OR的（de）影響，當門（mén）打開時希望能夠將（jiāng）氣流紊流狀態控製在一定範圍內，保證手（shǒu）術台區域的平行流，因此將兩個房間的（de）排風口設置在移動屏蔽門側，將紊流控製在排風口範圍內，《潔淨室施工驗收規範》中（zhōng）要求潔淨室開門時，距門0.6m處潔淨度不低。因（yīn）此兩側排風口設置在距門約0.65~0.8m的距離，而手術台距門約2.5m。氣流紊流區域影響不到手術台工作區（qū）域(見下圖)。
術中核磁風（fēng）口布置
氣流組織示意圖（屏（píng）蔽門關閉時）
當門打開時，OR對DR保持≥8Pa的（de）正壓（yā），氣流方向從屏蔽（bì）門處流向DR，流經（jīng）DR排風區域隨著DR的排風氣流被抽走。
當前位置：